unitate de expunere cu vacum
Un unitate de expunere cu vacum este un aparat sofisticat esențial în procesul de fotolitografie, folosit în principal în fabricarea plăcilor circuite imprimate (PCB) și în alte aplicații industriale. Acest sistem avansat combină o expunere precisă la lumină cu tehnologia de vacum pentru a asigura un contact optimal între filmul artistic și suprafața fotosensibilă. Unitatea are o sursă de lumină UV de înaltă intensitate, care utilizează de obicei diode LED sau becuri cu vapor de mercur, oferind o iluminare consistentă și uniformă pe întreaga zonă de expunere. Sistemul de vacum creează o sigiliere fără aer între filmul artistic și substrațul, eliminând golurile de aer care ar putea compromite calitatea imaginii. Panoul de control digital al unității permite operatorilor să ajusteze precis timpul de expunere, presiunea de vacum și intensitatea luminoasă, asigurând rezultate repetabile. Unitățile moderne de expunere cu vacum includ adesea caracteristici precum setări de memorie programabile, calcule automate ale timpului de expunere și sisteme de răcire integrate pentru a menține temperaturi optime de funcționare. Construcția robustă a echipamentului include de obicei o structură solidă, o cameră de expunere impermeabilă la lumină și interblocaje de siguranță pentru a proteja operatorii de radiația UV. Aceste unități sunt disponibile în diverse dimensiuni pentru a satisface diferitele cerințe de producție, de la prototipare în formate mici până la fabricarea industrială la scară largă.